茶园:画质差在哪、怎么修
咖啡馆的「03 · Blender 清晰版」和茶园旧网页,同是 3D H5,观感差一截。对照之后我们换了路线:用 Blender 把画面定下来,再烘焙/导出进网页。下面按「差在哪 → 怎么改 → 还差什么 → 流程教训」写清楚。
1. 并排一眼:过曝发白 vs 静态光影
tea-garden.havenice.day(Compatibility)。Live 观感数字(COMPARE §1):咖啡馆本机截图像素均亮约 45–70;茶园 Web 均亮约 184(过曝发白),与 tea-garden-3d-web/reviews/web-smoke/NOTES.md 的 avgLum≈184.5 一致。
2. 根因(按证据强度)
下列排序直接摘自 COMPARE.md §3,并保留原文证据点:
- 光照:烘焙 vs 实时(Web 还降级)
咖啡馆:Cycles lightmap + AO,UI 标「PBR · 静态光影」;教程写明 2K×2 光照图与 AO。
茶园:单灯实时阴影(DirectionalLight3D energy 1.3 等);Web 强制gl_compatibility(WEB-CHANGES.md),NOTES 自认「光影更平」;live avgLum≈184 发白。 - 材质栈不完整
咖啡馆:PBR(颜色/法线/粗糙度等)+ 烘焙图。
茶园:女孩仅 albedo 1024;hero 茶丛 LOD0 贴图 256×256;PLAN 写的分阶/描边未见对应 shader 文件落地。 - 工时花在阵列与可测返工,而非英雄近景
咖啡馆:室内约 12×14.5 m,教程指标约 75,646 三角、24 draw calls,预算在「看得清的地方」。
茶园 Web:约 853 丛;冷启动场景构建约 37–42 s;冷加载传输约 15.5 MB。白台阶等仍偏灰盒。 - 流程优化目标不同
咖啡馆学习包:先光影与遮挡 → 材质 → 轮廓。
茶园 3D 工作流:长期盯闪烁百分比、肘弯、偏移厘米等数字;「画面效果门」(原则 14)到 2026-11-02 才写进技能。概念图有,但成品对照被数字轮次淹没。 - 风格承诺未完全兑现
PLAN 承诺卡通分阶+描边;仓库godot/shaders/仅见 metric_grid,未见 toon。结果更像「低饱和写实失败」而非明确 stylized 语言。
3. 改法:Blender 路线 v1 → v2 → v3
用户确认走「像咖啡馆 03」的效果图路线:小场景、Mac 上 Blender Cycles 出图,先过画面效果门,再谈进网页。
v1 · 程序化馒头茶山
用几何+置换快速搭梯田与圆拱茶丛,验证机位与雾。能读出「茶山」轮廓,但叶片/材质仍假,石阶易浮空。
v2 · 换 CC0 扫描材质,但风格打架
引入 Poly Haven HDRI/石材/泥土,并加可数叶片。问题(看稿):茶丛仍像尖叶野草、HDRI 偏干黄荒山、石阶浮空感、卡通女孩与扫描场景冲突。说明「有扫描贴图」≠「像真实茶园」。
v3 · 定写实:成垄茶篷 + 梯田石坎 + 晨雾
目标画面:江南/武夷式梯田茶山晨景——圆拱连续茶篷、窄土沟、垒石感石坎、山谷晨雾。素材继续只用 CC0/项目自制;主图不放卡通人物(仅 scale-ref)。四机位 Cycles 成片(单张均远小于 3 分钟,合计约 78.5 s @ M4 Max)。
4. 进网页:烘焙/导出,而不是再导出一遍 Godot 过曝
做法对齐咖啡馆:在 Blender 侧用茶篷壳(冠层贴图 LOD)+ 地形石坎 PBR,导出 Draco/压缩友好的 GLB(当前约 9.5–10 MB,单文件 < 25 MiB),Three.js 单页加载;ACES 色调映射并压低曝光,避免旧版 avgLum≈184 的发白坑。
/v3/ 桌面首屏(本地冒烟):机位按钮 + 摇杆;均亮约 100 量级,不再一片白。旧版整包原样放在 /old/(deploy c33d65b8 备份),方便并排打脸;推荐入口是 /v3/。
5. 还差什么(已知不足)
- 近景叶片仍偏「壳上贴花/剪纸感」,不如离线 v3 密叶卡光泽。
- 石坎仍偏条带置换,未达真实垒石扫描几何。
- 网页尚无写实采茶人物(卡通 GLB 与写实场景冲突,主片不放)。
- 远树为简化团块;晨雾偏浓时远山会被吃掉。
6. 流程教训
- 先目标效果图,再工程。 M1 前先出 1 张用户认可的目标图。
- 画面效果门先于分数评审(原则 14)。 并排看素材/材质/光照/风格;肉眼差距大就先改画面,不要用闪烁%/偏移 cm 代替观感。
- 展示向场景优先静态或半静态 GI/烘焙(咖啡馆路线);Godot Compatibility 过曝画面不能当质量验收基准。
- 工时压在英雄资产材质完整度,不要用 800+ 同质近模阵列和可测返工堆体积。